半导体薄膜设备公司

领先的半导体薄膜设备公司：

• 应用材料（Applied Materials）：提供广泛的薄膜沉积设备，包括化学气相沉积 (CVD)、物理气相沉积 (PVD) 和原子层沉积 (ALD) 工具。
• 泛林集团（Lam Research）：专注于蚀刻和清洁流程，为半导体制造提供薄膜刻蚀和去胶设备。
• 东京电子（Tokyo Electron）：提供用于半导体制造的各种薄膜沉积和蚀刻设备，包括 MBE 和 MOCVD 系统。
• 科磊（KLA）：主要从事薄膜沉积和蚀刻工艺的计量和检测设备。
• 艾司摩尔（ASML）：著名的光刻设备制造商，但也提供用于薄膜沉积的 DUV 和 EUV 设备。
• 北方半导体（NSM）：为半导体制造提供先进的薄膜沉积和蚀刻设备。
• Veeco Instruments：提供用于半导体和数据存储应用的薄膜沉积和测量设备。
• Axcelis Technologies：开发用于半导体制造的离子注入和等离子体蚀刻设备，包括薄膜刻蚀工具。
• Tera Barrier Technologies：专注于先进的薄膜沉积技术，包括 ALD 和 CVD。
• Semilab：提供用于半导体和纳米技术应用的计量和表征设备，包括薄膜测量工具。